এইচএএ ভিত্তিক সূত্রগুলির জন্য পলিয়েস্টার রেজিন এর অনন্য নিরাময় বৈশিষ্ট্যগুলির জন্য আবরণ শিল্পে বিশেষত নিম্ন তাপমাত্রায় নিরাময় ক্ষমতা এবং তুলনামূলকভাবে দ্রুত নিরাময়ের গতিতে উল্লেখযোগ্য সুবিধাগুলি দেখানোর ক্ষেত্রে অনেক মনোযোগ আকর্ষণ করেছে। নিম্ন তাপমাত্রায় নিরাময়ের জন্য এইচএএ ভিত্তিক সূত্রগুলির জন্য পলিয়েস্টার রেজিনগুলির ক্ষমতা সম্পর্কে, এটি লেপ অ্যাপ্লিকেশনগুলির জন্য গুরুত্বপূর্ণ। Dition তিহ্যবাহী পলিয়েস্টার রজন নিরাময়ের জন্য সাধারণত উচ্চতর তাপমাত্রা প্রয়োজন, যা কেবল শক্তি খরচ বাড়ায় না তবে স্তরটিতে তাপীয় ক্ষতিও হতে পারে। এর উচ্চ প্রতিক্রিয়াশীলতার কারণে, এইচএএ নিরাময় এজেন্ট পলিয়েস্টার রজনকে নিম্ন তাপমাত্রায় কার্যকর নিরাময় অর্জন করতে সক্ষম করে। এর অর্থ হ'ল লেপ অ্যাপ্লিকেশন চলাকালীন হালকা নিরাময় শর্তগুলি ব্যবহার করা যেতে পারে, যার ফলে সাবস্ট্রেটের উপর তাপীয় চাপ হ্রাস করা এবং লেপ আনুগত্য এবং সামগ্রিক কর্মক্ষমতা উন্নত করা যায়।
দ্বিতীয়ত, এইচএএ ভিত্তিক সূত্রগুলির জন্য পলিয়েস্টার রজনগুলির নিরাময় গতিও তুলনামূলকভাবে দ্রুত। যথাযথ নিরাময় শর্তে, এইচএএ নিরাময় এজেন্ট একটি স্থিতিশীল ক্রস-লিঙ্কযুক্ত কাঠামো গঠনের জন্য পলিয়েস্টার রজনে কার্যকরী গোষ্ঠীগুলির সাথে দ্রুত প্রতিক্রিয়া জানাতে পারে। এই দ্রুত নিরাময় প্রক্রিয়াটি কেবল উত্পাদন চক্রকে সংক্ষিপ্ত করতে এবং উত্পাদন দক্ষতা উন্নত করতে সহায়তা করে না, তবে নিরাময় প্রক্রিয়া চলাকালীন যে ত্রুটিগুলি ঘটতে পারে সেগুলিও হ্রাস করে, যেমন বুদবুদ, স্যাগিং ইত্যাদি, এইভাবে লেপের সামগ্রিক গুণমানকে উন্নত করে।
এছাড়াও, এইচএএ ভিত্তিক সূত্রগুলির জন্য পলিয়েস্টার রেজিনগুলি নিরাময় প্রক্রিয়া চলাকালীন ভাল তরলতা এবং মসৃণতা প্রদর্শন করে। এটি এইচএএ নিরাময় এজেন্ট এবং পলিয়েস্টার রজনের মধ্যে ভাল সামঞ্জস্যের কারণে, যা রজনকে নিরাময়ের আগে কম সান্দ্রতা বজায় রাখতে দেয় যা পেইন্টটি নির্মাণ এবং সমতলকরণের জন্য উপকারী। নিরাময় প্রক্রিয়া চলাকালীন, রজন ধীরে ধীরে ভাল গ্লস এবং স্বচ্ছতা বজায় রাখার সময় একটি শক্ত আবরণ গঠনে দৃ if ় করে, লেপকে আরও দৃশ্যত সুন্দর করে তোলে।
এইচএএ ভিত্তিক সূত্রগুলির জন্য পলিয়েস্টার রেজিনগুলি নিম্ন তাপমাত্রায় দ্রুত নিরাময় অর্জন করতে পারে এবং এর তরলতা এবং মসৃণতা রয়েছে। এই বৈশিষ্ট্যগুলি এইচএএ ভিত্তিক সূত্রগুলির জন্য পলিয়েস্টার রজনগুলি তৈরি করে বহিরঙ্গন আবরণগুলির ক্ষেত্রে বিস্তৃত প্রয়োগের সম্ভাবনা রয়েছে, বিশেষত যেখানে দ্রুত নিরাময়, হ্রাস শক্তি খরচ এবং উন্নত লেপ মানের প্রয়োজন। একই সময়ে, এইচএএ ভিত্তিক সূত্রগুলির জন্য পলিয়েস্টার রেজিনগুলিতেও ভাল বহিরঙ্গন স্থায়িত্ব এবং যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্য রয়েছে এবং বিভিন্ন জটিল পরিবেশে ব্যবহারের প্রয়োজনীয়তা পূরণ করতে পারে। সুতরাং, এইচএএ ভিত্তিক সূত্রগুলির জন্য পলিয়েস্টার রেজিনগুলি নিঃসন্দেহে ভবিষ্যতে লেপ শিল্পের অন্যতম গুরুত্বপূর্ণ বিকাশের দিক হয়ে উঠবে
